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| 1 | 真空阴极电弧沉积TiB_2薄膜的组织结构及其摩擦学性能的研究显示文摘用TiB2作阴极靶,采用优化的真空阴极电弧沉积工艺制备的TiB2薄膜是由TiB2, Ti2B5,TiB和Ti组成的多相结构.薄膜的摩擦磨损试验表明:TiB2薄膜的摩擦系数为 0.139,膜层寿命超过60 min,是TiN和(Ti,A1)N 膜层的2倍. | 朱霞高 王成彪 | 2002 | 广东有色金属学报2002，12，2： | 3 |
| 2 | 偏压对磁控溅射TiB_2涂层结构和性能的影响显示文摘溅射镀膜过程中基体偏压对涂层的组织、结构和性能都有很重要的影响。本文采用脉冲磁控溅射技术在硬质合金基体上制备了TiB_2涂层,研究了不同衬底偏压(-50^-300 V)对涂层生长特性、结构和性能的影响。利用X射线衍射、扫描电子显微镜、能谱仪、X射线光电子能谱仪、纳米划痕仪、维氏硬度计对涂层的物相结构、表面形貌、化学成分、以及机械性能进行了分析。结果表明:在所有偏压下制备出的TiB_2涂层都呈现出六方结构,并且表现为显著的(001)择优取向;随着偏压的逐渐增大,(001)衍射峰强度呈先增强后减弱的趋势;基体施加低偏压时制备出的TiB_2涂层呈现出粗大的柱状生长结构,这时涂层较为疏松,裂纹和缺陷较多,硬度为2829 HV;随着制备过程中基体偏压的升高,涂层中的柱状生长结构逐渐细化,涂层变得越来越致密。这使得涂层硬度得到大幅提高,在偏压为-250 V时达到最大硬度值3820 HV。但随着偏压进一步增大到-300 V时,由于剧烈轰击产生的缺陷增多,涂层硬度反而下降。 | 高翔 代伟 费加喜 刘景茂 王启民 | 2017 | 真空科学与技术学报2017，37，10： | 3 |
| 3 | 磁控溅射掺碳TiB_2薄膜的Raman光谱与摩擦行为显示文摘采用磁控溅射技术,使用SiC薄膜和Ti膜作为中间层在Cr12MoV钢表面制备掺碳TiB2(TiB2-C)薄膜,研究掺碳TiB2薄膜的Raman光谱、纳米压痕和摩擦行为。结果表明:溅射功率过高或过低都不利于掺入的C元素在薄膜中以DLC形式存在;C元素掺杂降低了TiB2薄膜的纳米硬度和弹性模量;以DLC形式存在的掺入的C能有效降低室温干摩擦(Si3N4球对摩件)条件下TiB2薄膜的摩擦因数。 | 许晓静 盛新兰 张体峰 刘敏 辛喜玲 | 2012 | 材料工程2012，40，8： | 2 |
| 4 | 掺碳TiB_2薄膜/钢摩擦副的干摩擦磨损性能显示文摘采用室温磁控溅射技术成功地在钢(Cr12MoV)基材表面制备出TiB2/SiC双层薄膜及掺碳TiB2(TiB2-C)/SiC双层薄膜,SiC薄膜为中间层。研究了掺碳对TiB2薄膜组织结构和摩擦磨损性能的影响。结果表明:SiC薄膜与基材和TiB2,TiB2-C薄膜间都具有明显且呈梯度的元素扩散;掺入的C以sp3C-C和sp2C-C形式存在,即以类金刚石形式存在;与钢球(直径为4 mm)对摩、干摩擦条件下,TiB2薄膜和TiB2-C薄膜的磨损速率在105mm3/(m.N)级,掺C明显降低了薄膜的摩擦系数(从0.82降低到0.45,5 min)和对对摩件(钢)的元素转移。分析表明,摩擦磨损性能的提高主要是TiB2-C薄膜中的C起到了固体润滑作用所致。 | 辛喜玲 许晓静 范真 田琨 陈丹 于春杭 盛新兰 | 2012 | 真空科学与技术学报2012，32，1： | 1 |
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