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		题名	作者	年代	出处	被引量
	1	绝缘衬底对CVD生长石墨烯的影响研究进展显示文摘石墨烯自从2004年问世之后,由于独特的结构和优异的性能很快便成为了碳素家族的明星而引起了各界的关注。石墨烯独特的电学性能使其有望替代硅成为下一代半导体工业的主角。然而要实现石墨烯电子器件的构建,必须先解决在绝缘或半导体衬底上直接制备石墨烯的难题。综述了近几年不同绝缘衬底对化学气相沉积法制备石墨烯所产生的影响,分析比较了不同绝缘衬底的优缺点,并展望了石墨烯的发展及应用前景。	陈彩云戴丹陈国新巩金瑞江南詹肇麟	2015	材料导报2015，29，3：	0

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