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1PET基片上射频磁控溅射不同厚度ITO薄膜的光电学特性显示文摘采用射频磁控溅射技术,室温下在PET柔性衬底上沉积不同厚度的掺锡氧化铟(ITO)薄膜,样品的结构、形貌和光电学性质分别用X射线衍射仪、原子力显微镜、分光光度计和Van der Pauw方法测量.实验结果表明:在其它参数不变的条件下,随着溅射时间的增加薄膜的厚度增大,而薄膜的颗粒大小和表面粗糙度也随之变大;方块电阻、电阻率随样品厚度的增加而减小,相应的迁移率减少,载流子浓度变大.当样品厚度为148 nm时,样品的方块电阻为26.5Ω·□-1、迁移率为19.1 cm2·V-1·s-1、载流子浓度为8.43×1020cm-3.郑卫峰 林丽梅 吕佩伟 盖荣权 赖发春 2013福建师范大学学报(自然科学版)2013,29,1:1
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