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		题名	作者	年代	出处	被引量
	1	金属基带的连续非接触式电化学抛光显示文摘目的研发一种适合工业生产连续带材的非接触式电化学抛光方法。方法采用以磷酸.硫酸为主要氧化剂的环保型电化学抛光液对金属基带进行电化学抛光,研究阳极电流密度(JA)、电解液温度(t)、基带与电极间的距离(L)和走带速度(v)对基带表面粗糙度的影响,优化抛光工艺条件。结果优化的工艺条件如下:为1500~2500A/m^2t为40~80℃,三为4~12mm,v为0.5~1.8m/min。在此工艺条件下进行电化学抛光,极为有效地降低了金属基带的表面粗糙度.光亮度达到镜面状态,原子力显微镜测试5μm×5μm范围内的表面平均粗糙度值低于1.0nm。结论该抛光工艺实现了千米级基带的连续性抛光,达到工业化生产要求。	高永超程好杨淑平庄维伟蔡渊张国栋	2014	表面技术2014，43，2：	3

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